2011/008: sistema de depósito químico en fase vapor de gran área de substrato para el crecimiento de nanofilos de silicio/germanio
Sistema de depósito químico en fase vapor de gran área de substrato para el crecimiento de nanofilos de silicio/germanio.
Plazo
El plazo para la recepción de ofertas era de 2011-03-17.
La contratación se publicó en 2011-01-21.
Proveedores
Los siguientes proveedores se mencionan en decisiones de adjudicación u otros documentos de contratación:
¿A quién?
¿Cómo?
¿dónde?
Historial de adquisiciones
| Fecha |
Documento |
| 2011-01-21
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Anuncio de licitación
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| 2011-04-13
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Anuncio de adjudicación de contrato
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| 2012-05-11
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Información complementaria
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