Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma para óxidos internivel, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona
Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma para óxidos internivel, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona.
Plazo
El plazo para la recepción de ofertas era de 2017-11-30.
La contratación se publicó en 2017-10-20.
¿A quién?
¿Cómo?
¿dónde?
Historial de adquisiciones
| Fecha |
Documento |
| 2017-10-20
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Anuncio de licitación
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