Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma para óxidos internivel, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona

Anuncio de licitación (2017-10-20)
Objeto
Alcance de la contratación
Título: Instrumentos de evaluación o ensayo diversos
Número de referencia: 999/18
Breve descripción:
“Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma para óxidos internivel, destinado al Instituto de Microelectrónica...”    Ver más
Metadatos del anuncio
Idioma original: español 🗣️
Tipo de documento: Anuncio de licitación
Naturaleza del contrato: Suministros
Reglamentación: Unión Europea
Vocabulario común de contratación pública (CPV)
Código: Instrumentos de evaluación o ensayo diversos 📦
Lugar de ejecución
Región NUTS: Barcelona 🏙️

Procedimiento
Tipo de procedimiento: Procedimiento abierto
Tipo de oferta: Oferta para todos los lotes
Criterios de adjudicación
Oferta más económica

Autoridad contratante
Identidad
País: España 🇪🇸
Tipo de poder adjudicador: Ministerio o cualquier otra institución nacional o federal
Nombre del poder adjudicador: Secretaría General de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.
Dirección postal: c/ Serrano, 117
Código postal: 28006
Ciudad postal: Madrid
Contacto
Dirección de internet: http://www.csic.es 🌏
Correo electrónico: soia@csic.es 📧
Teléfono: +34 915681781 📞
Fax: +34 915681813 📠
URL de los documentos: https://contrataciondelestado.es/wps/poc?uri=deeplink:detalle_licitacion&idEvl=Yotic5edeaQQK2TEfXGy%2BA%3D%3D 🌏

Referencia
Fechas
Fecha de envío: 2017-10-20 📅
Fecha límite de presentación: 2017-11-30 📅
Fecha de publicación: 2017-10-25 📅
Identificadores
Número de anuncio: 2017/S 205-422592
Número del DO-S: 205
Fuente: OJS 2017/S 205-422592 (2017-10-20)